Производственная линия компании ASAIR Electronics по изготовлению чипов MEMS-датчиков на 6-дюймовых пластинах

С развитием новых информационных технологий, таких как биомедицина, искусственный интеллект, Интернет вещей (IoT) и сети 5G, происходит дальнейшая трансформация и обновление традиционного производства. Полупроводниковые микросхемы MEMS-датчиков играют центральную роль в эпоху Интернета вещей. Производство интеллектуальных датчиков стало важнейшим элементом преобразования и модернизации традиционных отраслей промышленности.

В 2020 году компания Guangzhou ASAIR Electronics Co., Ltd официально ввела в эксплуатацию производственную линию по выпуску MEMS-чипов на 6-дюймовых полупроводниковых пластинах. Здесь успешно изготавливаются датчики температуры и влажности, расхода, детекторы газов, датчики дифференциального давления, измерители скорости ветра и другие микросхемы датчиков, а также полупроводниковые MEMS-чипы. Завершение строительства и ввод в эксплуатацию этой производственной линии свидетельствует, что ASAIR Electronics стала ведущим производителем полупроводниковых MEMS-чипов в Южном Китае, а также заложила прочный фундамент для разработки высококачественных полупроводниковых MEMS-датчиков в стране.

Компания ASAIR Electronics инвестировала огромные средства в создание производственной линии для выпуска полупроводниковых MEMS-чипов. Общая площадь чистого цеха, построенного на первом этапе проекта, составляет около 2500 м². В цехе имеется зона влажной очистки, зона литографии со 100-уровневой очисткой, зона нанесения покрытия с 1000-уровневой очисткой, зона травления с 1000-уровневой очисткой, зона оксидирования, зона ионной имплантации с 1000-уровневой очисткой, коридор для посетителей и т.д. По всей чистой комнате установлены высокопроизводительные обдувочные шлюзы для тщательного удаления пыли с входящих внутрь сотрудников и поступающих материалов.

Первая часть производственной линии была заложена в марте 2019 года, её строительство официально началось в июне того же года. После 6 месяцев строительства была подготовлена инфраструктура производственной линии. В 2020 году было установлено оборудование пошаговой проекционной литографии, двухсторонней литографии, адгезивные проявочные установки, установки глубокого травления кремния, большие установки ионной имплантации, установки плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD), установки химического осаждения из паровой фазы при пониженном давлении (LPCVD), печи для термического оксидирования, оборудование для магнетронного напыления, зонды, современное автоматизированное испытательное оборудование, такое как игольчатый стол, измеритель механического напряжения и полностью автоматизированная очистительная установка RCA, после чего производственная линия была официально введена в эксплуатацию.

На первом этапе на производственной линии по изготовлению полупроводниковых MEMS-компонентов компании ASAIR Electronics используется 500-нм технологический процесс, стоимость установленного оборудования составляет около 70% от общего объёма инвестиций. На этом этапе проекта были успешно изготовлены разнообразные высококачественные микросхемы, такие как датчики температуры, влажности, качества воздуха, детекторы газов, расходомеры и датчики дифференциального давления. Согласно плану, на втором этапе в 2021 году был реализован 350-нм техпроцесс, а на третьем этапе в 2022 году — 180-нм техпроцесс изготовления MEMS-компонентов. По окончании реализации проекта объём выпуска достиг 40 000 пластин в месяц, что позволит удовлетворить собственные потребности компании ASAIR Electronics и потребности других производителей различных полупроводниковых микросхем.